"FBAR"의 두 판 사이의 차이

1번째 줄: 1번째 줄:
PAMiD
+
FBAR(F-바)
 
<ol>
 
<ol>
 
<li>링크
 
<li>링크
 +
<ol>
 +
<li> [[전자부품]]
 
<ol>
 
<ol>
 
<li> [[SAW대문]]
 
<li> [[SAW대문]]
 
<ol>
 
<ol>
<li> [[SAW-모듈]]
+
<li> [[FBAR]] - 이 페이지
<ol>
+
<li> [[SMR]]
<li> [[PAMiD]] - 이 페이지
 
 
</ol>
 
</ol>
 
</ol>
 
</ol>
 
</ol>
 
</ol>
<li>용어
+
<li>3.8x3.8mm 듀플렉서,
 
<ol>
 
<ol>
<li>PAMid = Power Amplifier Module integrated Duplexer
+
<li>포장 보관
 +
<gallery>
 +
image:antistatic_box01_001.jpg | ASE KOREA
 +
image:tray_jedec01_001.jpg
 +
image:antistatic_box01_002.jpg
 +
image:fbar_c7150_001.jpg | 2007년 12월 29일 출하품
 +
</gallery>
 +
<li>벌크 외관
 +
<gallery>
 +
image:fbar_c7150_002.jpg
 +
image:fbar_c7150_003.jpg
 +
</gallery>
 +
<li>[[트레이]]에서
 +
<gallery>
 +
image:tray_jedec01_005.jpg
 +
image:tray_jedec01_006.jpg
 +
</gallery>
 +
<li>제품 1, 불에 태워서
 +
<gallery>
 +
image:fbar_c7150_004.jpg
 +
image:fbar_c7150_005.jpg
 +
image:fbar_c7150_006.jpg
 +
image:fbar_c7150_007.jpg | WLP 단면
 +
image:fbar_c7150_010.jpg
 +
image:fbar_c7150_011.jpg | 캡을 벗겨서
 +
</gallery>
 +
<li>질산에 넣어서
 +
<gallery>
 +
image:fbar_c7150_008.jpg
 +
image:fbar_c7150_009.jpg
 +
image:fbar_c7150_012.jpg
 +
</gallery>
 +
<li>Cap을 벗겨서(인두기로 가열해서 AuSn 실링을 녹인 후, 칼날을 밀어넣어서)
 +
<gallery>
 +
image:fbar_c7150_013.jpg
 +
image:fbar_c7150_014.jpg
 +
image:fbar_c7150_015.jpg | air gap 에칭을 위한 구멍
 +
</gallery>
 
</ol>
 
</ol>
<li>PAM 모듈
+
<li>1.8x1.4mm
 +
<ol>
 +
<li> Xiaomi [[Redmi Note 4X]] 휴대폰에서
 +
<ol>
 +
<li>듀플렉서 1.8x1.4mm 7개, 무라타1, 트라이퀸트1, Taiyo Yuden 5개 중에서
 +
<ol>
 +
<li>Taiyo Yuden, 마킹 701 -> LTE Band7 Tx:2535MHz, Rx:2655MHz
 
<ol>
 
<ol>
<li> [[3G통신모듈]]
+
<li>주파수 파형
 +
<gallery>
 +
image:redmi_note4x_189.png | 2535MHz
 +
</gallery>
 +
<li>Tx필터 [[FBAR]] 온도 특성 실험-1
 +
<ol>
 +
<li>치구 준비
 +
<gallery>
 +
image:redmi_note4x_189_001.jpg | 정확한 주파수 특성 그래프를 위해서 접지 납땜을 추가함
 +
image:redmi_note4x_189_001_001.png | 주파수 특성 그래프
 +
</gallery>
 +
<li>가열 냄비 준비
 +
<gallery>
 +
image:redmi_note4x_189_002.jpg
 +
image:redmi_note4x_189_003.jpg
 +
</gallery>
 +
<li>[[과불소화 액체]]는 Solvay Solexis회사의 GALDEN D03 제품(비점 190도, 유전율 2.1, 유전손실 0.0002)을 부었다.
 +
<gallery>
 +
image:redmi_note4x_189_004.jpg | Fluorinert 액체를 부어도 파형에는 큰 변화가 없다.
 +
image:redmi_note4x_189_005.jpg | 온도센서를 설치하고 Fluorinert를 부은 후,
 +
image:redmi_note4x_189_006.jpg
 +
image:redmi_note4x_189_007.jpg | 온도센서는 DMM저항값으로 읽어드림
 +
</gallery>
 +
<li>실험 방법
 +
<gallery>
 +
image:redmi_note4x_189_008.jpg | 별도의 K타입 열전대로 온도 측정 문제점을 체크함
 +
image:redmi_note4x_189_009.jpg | 50도 미만에서 선풍기로 온도를 더 빨리 내림
 +
</gallery>
 +
<li>5071C 네트워크분석기에서 주파수 값과 3478A DMM에서 R 읽어 온도 환산 프로그램 [[tcf-ibw.txt]]
 +
<li>엑셀 데이터
 +
<gallery>
 +
image:redmi_note4x_189_010.png | 온도프로파일
 +
image:redmi_note4x_189_011.png | 피크이득
 +
image:redmi_note4x_189_012.png | -10dB 중심주파수
 +
image:redmi_note4x_189_013.png | -30ppm 온도계수를 갖는다.
 +
image:redmi_note4x_189_014.png | 대역폭
 +
</gallery>
 +
</ol>
 +
<li>Tx필터 온도 특성 실험-2, 첫실험이 성공이어서 온도를 더 높게 빠르게 올림
 
<ol>
 
<ol>
<li>EpiValley 제조(?), SEC-8380 V1.0 2009.09.12, CDMA 1x EV-DO USB Modem, 836/881MHz, main chipset: QSC6085
+
<li>30와 130도씨에서 특성 그래프 비교
 +
<gallery>
 +
image:redmi_note4x_189_015.png
 +
</gallery>
 +
<li>그래프
 +
<gallery>
 +
image:redmi_note4x_189_016.png | 30~130도씨 온도프로파일
 +
image:redmi_note4x_189_017.png | 피크이득
 +
image:redmi_note4x_189_018.png | -10dB 중심주파수
 +
image:redmi_note4x_189_019.png | -33ppm 온도계수를 갖는다.
 +
image:redmi_note4x_189_020.png | 대역폭
 +
</gallery>
 +
<li>사용된 액체 부피가 작고, 수위가 낮아 온도 편차가 크다. 그러므로 빠른 온도 상승에서는 액체를 순환시켜야(저어야)겠다.
 +
</ol>
 +
<li>다이 내부 - 두께가 두꺼운 제품이다.
 
<ol>
 
<ol>
<li>외관
+
<li>SAW + BAW 조합이다.
 
<gallery>
 
<gallery>
image:3g_module03_003.jpg
+
image:redmi_note4x_189_021.jpg
image:3g_module03_003_017.png
+
image:redmi_note4x_189_022.jpg | Tx는 baw 필터(레이저 다이싱)에서 F-bar, Rx는 saw 필터이다.
 
</gallery>
 
</gallery>
<li>내부
+
<li>F-BAR baw 필터
 
<gallery>
 
<gallery>
image:3g_module03_003_001.jpg
+
image:redmi_note4x_189_023.jpg | W868-08
image:3g_module03_003_002.jpg | PA ? PA 매칭?
+
image:redmi_note4x_189_024.jpg | 진동판에 무늬가 있는 #1~#6 표시함
 
</gallery>
 
</gallery>
<li>Tx 필터 836MHz, 1.5x1.2mm
+
<li>공진기 #1~#6
 
<gallery>
 
<gallery>
image:3g_module03_003_013.jpg
+
image:redmi_note4x_189_025.jpg | #1
image:3g_module03_003_003.jpg
+
image:redmi_note4x_189_026.jpg | #2
image:3g_module03_003_004.jpg
+
image:redmi_note4x_189_027.jpg | #3
image:3g_module03_003_005.jpg
+
image:redmi_note4x_189_028.jpg | #4
image:3g_module03_003_006.jpg
+
image:redmi_note4x_189_029.jpg | #5
image:3g_module03_003_007.jpg | V10PLU6B 314306 JB
+
image:redmi_note4x_189_030.jpg | #6
 
</gallery>
 
</gallery>
<li>Duplexer, 836/881MHz, 2.5x2.0mm
+
<li>Rx saw 필터
 
<gallery>
 
<gallery>
image:3g_module03_003_008.jpg
+
image:redmi_note4x_189_031.jpg | W1895-14
image:3g_module03_003_009.jpg
+
image:redmi_note4x_189_032.jpg | 주기:1.48um 주파수:2655M 쏘속도:3930m/sec
image:3g_module03_003_010.jpg
 
image:3g_module03_003_011.jpg
 
image:3g_module03_003_012.jpg
 
image:3g_module03_003_014.jpg | Tx필터 813077C AC
 
image:3g_module03_003_015.jpg | Rx필터 813256
 
image:3g_module03_003_016.jpg | 정전기 방지용, 저항 쇼트 패턴
 
 
</gallery>
 
</gallery>
 
</ol>
 
</ol>
 
</ol>
 
</ol>
 +
</ol>
 +
</ol>
 +
</ol>
 +
<li>크기 측정하지 않음
 +
<ol>
 
<li> Apple [[iPhone 5S]]에서
 
<li> Apple [[iPhone 5S]]에서
 
<ol>
 
<ol>
<li>Avago A790720 // TriQuint TQM6M6224 // Skyworks 77355 // RFMD 1495 // SKY477 // Skyworks 77810-12 // Murata QE // Avago A7900
+
<li>사진
 +
<gallery>
 +
image:iphone5s01_125.jpg
 +
image:iphone5s01_125_001.jpg
 +
</gallery>
 +
<li>A(아바고)D3R마킹: triple [[FBAR]] 필터 뱅크
 
<ol>
 
<ol>
<li>외관
+
<li>두 다이 측면
 
<gallery>
 
<gallery>
image:iphone5s01_135.jpg
+
image:iphone5s01_125_004.jpg | PCB에 [[인덕터]]가 있다.
image:iphone5s01_136.jpg
+
image:iphone5s01_125_005.jpg
 +
image:iphone5s01_125_006.jpg
 
</gallery>
 
</gallery>
<li>몰딩 수지를 위에서부터 벗겨내
+
<li>두 다이, 솔더링면. via를 통해 내부와 연결된다.
 
<gallery>
 
<gallery>
image:iphone5s01_135_001.jpg
+
image:iphone5s01_125_007.jpg | MN KV F / M9 NO M
image:iphone5s01_135_002.jpg
 
 
</gallery>
 
</gallery>
<li>모듈을 모두 뜯어내, 메인보드에서 납땜면을 관찰함
+
<li>큰 다이
 
<gallery>
 
<gallery>
image:iphone5s01_135_003.jpg
+
image:iphone5s01_125_008.jpg
 +
image:iphone5s01_125_009.jpg
 
</gallery>
 
</gallery>
</ol>
+
<li>작은 다이
<li>Skyworks 77810-12 (B 5/8 Dual [[PAMiD]])?
 
 
<gallery>
 
<gallery>
image:iphone5s01_136_001.jpg
+
image:iphone5s01_125_010.jpg | 뚜껑 두 변을 뜯으면
image:iphone5s01_136_001_001.jpg
+
image:iphone5s01_125_011.jpg | 완전히 뜯으면. 좁은 Au 띠로 접착
image:iphone5s01_136_001_002.jpg | 1.8x1.4mm Taiyo Yuden CSP DPX, Murata WLP DPX
+
image:iphone5s01_125_012.jpg | 뚜껑 접착면.
image:iphone5s01_136_001_003.jpg
 
image:iphone5s01_136_001_004.jpg | Murata WLP roof1을 아래에서 위로 쳐다볼 때. 노랑색이 RDL 전극이다.
 
image:iphone5s01_136_001_005.jpg | roof1을 뜯으면
 
image:iphone5s01_136_001_006.jpg | 구리판이다.
 
 
</gallery>
 
</gallery>
 +
</ol>
 
<li>Avago A790720, Dual [[PAMiD]]
 
<li>Avago A790720, Dual [[PAMiD]]
 
<ol>
 
<ol>
92번째 줄: 189번째 줄:
 
<gallery>
 
<gallery>
 
image:iphone5s01_136_005_002.jpg
 
image:iphone5s01_136_005_002.jpg
</gallery>
 
<li>Epcos 2.0x1.6mm 도금타입 CSP [[SAW-핸드폰DPX]]
 
<gallery>
 
image:iphone5s01_136_005_003.jpg
 
image:iphone5s01_136_005_004.jpg | 위에서 볼 때
 
image:iphone5s01_136_005_005.jpg
 
image:iphone5s01_136_005_006.jpg | 솔더볼이 몰딩압력을 견디기 위해, 구리도금 벽을 세웠다.
 
image:iphone5s01_136_005_007.jpg | AISGC 또는 AI56C
 
image:iphone5s01_136_005_008.jpg
 
 
</gallery>
 
</gallery>
 
<li>[[FBAR]] DPX에서 - RX(로 추정)
 
<li>[[FBAR]] DPX에서 - RX(로 추정)
111번째 줄: 199번째 줄:
 
image:iphone5s01_136_005_011.jpg
 
image:iphone5s01_136_005_011.jpg
 
image:iphone5s01_136_005_012.jpg
 
image:iphone5s01_136_005_012.jpg
</gallery>
 
</ol>
 
<li>TriQuint TQM6M6224, Dual [[PAMiD]]
 
<ol>
 
<li>사진
 
<gallery>
 
image:iphone5s01_136_006.jpg
 
image:iphone5s01_136_006_001.jpg
 
image:iphone5s01_136_006_002.jpg | 질산에 녹아 없어졌기 때문에 GaAs 칩이다.
 
</gallery>
 
<li>유리 지붕
 
<gallery>
 
image:iphone5s01_136_006_003.jpg | 투명 유리 중앙에 다이본딩 이젝트 바늘에 묻은 접착제 성분이 보인다.
 
</gallery>
 
<li>와이어본딩 타입 [[SMR]] 필터, 2밴드용 듀플렉서를 위해 칩을 4개 사용
 
<gallery>
 
image:iphone5s01_136_006_004.jpg | 투명 유리 지붕을 찾지 못하고 망실
 
image:iphone5s01_136_006_005.jpg | 벽
 
image:iphone5s01_136_006_006.jpg | 와이어본딩 높이를 낮추기 위한
 
image:iphone5s01_136_006_007.jpg | 마스크 자표 X21 Y26
 
 
</gallery>
 
</gallery>
 
</ol>
 
</ol>

2020년 8월 17일 (월) 18:16 판

FBAR(F-바)

  1. 링크
    1. 전자부품
      1. SAW대문
        1. FBAR - 이 페이지
        2. SMR
  2. 3.8x3.8mm 듀플렉서,
    1. 포장 보관
    2. 벌크 외관
    3. 트레이에서
    4. 제품 1, 불에 태워서
    5. 질산에 넣어서
    6. Cap을 벗겨서(인두기로 가열해서 AuSn 실링을 녹인 후, 칼날을 밀어넣어서)
  3. 1.8x1.4mm
    1. Xiaomi Redmi Note 4X 휴대폰에서
      1. 듀플렉서 1.8x1.4mm 7개, 무라타1, 트라이퀸트1, Taiyo Yuden 5개 중에서
        1. Taiyo Yuden, 마킹 701 -> LTE Band7 Tx:2535MHz, Rx:2655MHz
          1. 주파수 파형
          2. Tx필터 FBAR 온도 특성 실험-1
            1. 치구 준비
            2. 가열 냄비 준비
            3. 과불소화 액체는 Solvay Solexis회사의 GALDEN D03 제품(비점 190도, 유전율 2.1, 유전손실 0.0002)을 부었다.
            4. 실험 방법
            5. 5071C 네트워크분석기에서 주파수 값과 3478A DMM에서 R 읽어 온도 환산 프로그램 tcf-ibw.txt
            6. 엑셀 데이터
          3. Tx필터 온도 특성 실험-2, 첫실험이 성공이어서 온도를 더 높게 빠르게 올림
            1. 30와 130도씨에서 특성 그래프 비교
            2. 그래프
            3. 사용된 액체 부피가 작고, 수위가 낮아 온도 편차가 크다. 그러므로 빠른 온도 상승에서는 액체를 순환시켜야(저어야)겠다.
          4. 다이 내부 - 두께가 두꺼운 제품이다.
            1. SAW + BAW 조합이다.
            2. F-BAR baw 필터
            3. 공진기 #1~#6
            4. Rx saw 필터
  4. 크기 측정하지 않음
    1. Apple iPhone 5S에서
      1. 사진
      2. A(아바고)D3R마킹: triple FBAR 필터 뱅크
        1. 두 다이 측면
        2. 두 다이, 솔더링면. via를 통해 내부와 연결된다.
        3. 큰 다이
        4. 작은 다이
      3. Avago A790720, Dual PAMiD
        1. 메인보드에서
        2. CSP SAW DPX 솔더링 밑면에도 EMC 재료가 빈틈없이 몰딩되어 있다.
        3. FBAR DPX에서 - RX(로 추정)
        4. FBAR DPX에서 - TX(로 추정)