포토마스크

전자부품
1. 광관련
  1. 비공개 포토마스크
  2. 포토마스크 - 이 페이지
    1. 포토마스크 제조회사
    2. 구성요소
      1. 펠리클
    3. 설계
      1. CIF 포맷
        
        CIF2DXF
    4. 패턴
    5. 가공
      1. 포토마스크를 Miyachi ML-7110B로 레이저마킹
2. 참조
3. 참조
  1. 임프린트
광원 파장
1. g-line; 수은등에서 방출되는 435nm, 1960년대 사용
2. i-line; 수은등에서 방출되는 365nm
3. KrF; KrF 엑시머레이저에서 나오는 248nm
4. ArF; ArF 레이저에서 나오는 deep UV라고 부르는 193nm(6.4eV)
5. EUV; extreme ultraviolet 124nm~10nm (에너지는 10eV~124eV)
  1. 반도체 노광기에서는 13.5nm(~92eV)를 사용한다.
  2. 투과마스크가 아닌 반사 포토마스크(Mo과 Si 레이어들을 약 40회 교대로 적층하여 브래그 회절을 이용)를 사용한다.
  3. 광원은 CO2레이저+Sn플라즈마
기술
1. 다이설계 및 포토마스크 레이아웃 작업
  1. 2024/03/23 가난한 사람들을 위한 제안서 ,
2. photomask 포토마스크
  1. 위키페디아 Photomask https://en.wikipedia.org/wiki/Photomask
  2. 포토마스크 블랭크(photomask blank): 블랭크 마스크라 함은 아래와 같이 구성된 것(석영+차광층+PR층)을 말한다.
    1. 기술
      1. 재질은 synthetic quartz 이다.
      2. 이 석영 기판 위에 전통적으로 Chromium(Cr) 차광층(light-shielding layer)을 입힌다. 또는 Molybdenum-Silicon Binary (OMOG: Opaque MoSi on Glass) 차광재료를 입힌다.
      3. 차광층 위에 amplified photo resist를 발라 출하한다.
    2. 국내 제조업체
      1. 에스앤에스텍 http://www.snstech.co.kr/
        
        2001년 설립. 대구시 달서구 호산동로 42
        2023년 매출 1503억, 영업이익 250억
      2. SK엔펄스. SKC의 100% 자회사
        
        2018년 사업시작
        ArF용 PSM: 2023년부터 SK하이닉스에 공급
3. 전자빔 노광 Electron-beam lithography, e-beam lithography, EBL
  1. 위키페디아 Electron-beam lithography https://en.wikipedia.org/wiki/Electron-beam_lithography
    1. 10nm 해상도가 나온다. 2022년 최첨단 다중 빔 라이터(state-of-the-art electron multi-beam writer)는 20nm 해상도는 보인다.
    2. 정전기(electrostatic)에 의해서는 최대 1mm 영역만 전자빔이 편향되므로, 더 큰 패턴은 스테이지가 기계적으로 이동되어야 한다. 만약 전자기력(electromagnetic)으로 편향시키면 더 큰 면적을 그릴 수 있지만 왜곡이 크게 발생된다.
    3. 쓰기 속도는 웨이퍼 노광에 사용되는 광학적 노광장비에 비해 약 1천만배 느리다.
    4. 포토레지스트(PMMA 재료)에서 전자빔은 다양한 이유와 경로로 산란을 일으킨다.
      1. 포토레지스트 깊이(=두께) 변화에 따른 standing wave 효과는 일어나지 않는듯(?????)
  2. 자료
    1. Electron beam lithography for Nanofabrication - 127p
SAW 필터용 대표 포토마스크
1. 6인치 5x, 5인치 1x, 4인치 1x, 3인치 1x 포토마스크 각 한 장씩
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2. 1x 포토마스크 패턴, SAW-TVIF 용
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3. 1x 포토마스크 패턴, 100MHz pager용 RF SAW 필터
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    1992/10/19 제조
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마스크 받침대
1. KMG 최익서 가공품(PC Polycarbonate 재질)
  1. 2016/08/31
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  2. 환경 스트레스 크랙킹;ESC
2. 16/09/06 접시 받침대를 @1,000 x 50개를 옥션에서 구입
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기타 부품 제조용 포토마스크
1. 1x 마스크
  1. TPH용?
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(패턴을 없앤) 투명판(포토마스크를 재생하여 만든 투명한 쿼츠 기판)으로 사용
1. 양면현미경
  - 마이크로이미지에서 받은 6인치, 6.35mmt 재생 투명 Quartz 기판
  - 쿼츠판을 끼운 모습
거울로 응용
1. Nippon Denshoku ZE 2000 액체 색도계에서
  - 거울 면적만큼만 빛을 반사한다. VERSION 1 1.23.1985
  - 22% 빛을 반사한다. 78% 광량은 통과한다.
  - 거울 크기 0.51x0.51mm
설계시 고려사항
1. IC 표식으로 다이 위치표시
2. 폐곡선 정의가 안되는 CAD를 사용하는 듯
  1. SAW 듀플렉서
    - 이 회사 포토마스크 CAD 프로그램은 구멍 뚫린 폰트 적용은 허용 안되는 듯.
3. CAD에서는 곡선을 정의할 수 없다.
  1. SAW-핸드폰RF
    1. 2008.04 출시 Motorola Z8m 슬라이드 피처폰
      - 신호선에만 계단형태의 전극을 사용. 글꼴을 곡선으로 그릴 수 없어서.
4. 얼라인을 위한 인식 마크를 넣어야 한다.
  1. 핸드폰용 이미지센서
    1. 2013.10 출시 애플 iPhone 5S 스마트폰
      - 이 6개 막대기(피치 20.0um)는 Canon Stepper를 위한, align용 인식마크
참고
1. 핸드폰용 근접센서
  1. 2015년 09월 출시 iPad mini 4세대, WiFi 모델 A1538
    - 센서 패턴. 마치 포토마스크 얼라인 키와 유사하게 보인다.